有關等離子清洗中常用氣體你知道多少

　　等離子清洗機在清洗過程中配合著不同的氣體，其清洗效果也是截然不同的。

　　最多使用的氣體之一就是惰性氣體氬氣(Ar)，真空腔清洗過程中配合氬氣(Ar)往往可以有效得去除表面納米級污染物。

　　如果想增強腐蝕效果，就請通入氧氣(O2)。通過配合氧氣(O2)在真空腔清洗，可有效的去除有機污染物，比如光刻膠等。

　　還有一些比較難去除的氧化物可利用氫氣(H2)配合清洗，一般會選用氫氮混合氣體(氫5%氮95%)。

　　最常用的氣體是氮氣(N2)，生產成本低。這種氣體主要是配合在線式等離子對材料表面活化和改性的應用。當然真空環境下也可以使用。氮氣(N2)是提高材料表面侵潤性的首選。

　　還有一些特殊氣體類似于四氟化碳(CF4)，六氟化硫(SF6)等，蝕刻和去除有機物的效果會更加顯著。但這些氣體的使用前提是要有絕對耐腐蝕氣路和腔體結構，另外自己要戴好防護罩和手套才能工作。